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上海真空膜是在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。固然化学汽相堆积也采用减压、低压或等离子体等真空手腕，但普通真空镀膜是指用物理的办法堆积薄膜。
上海真空膜有三种方式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜经过加热蒸发某种物质使其堆积在固体外表，称为蒸发镀膜。
蒸发源有三品种型。
①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质
。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等资料。
②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。
③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000）的资料，即用电子束轰击资料使其蒸发。
溅射镀膜用高能粒子轰击固体外表时能使固体外表的粒子取得能量并逸出外表，堆积在基片上。
离子镀蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子堆积在固体外表，称为离子镀。